M05600 - SEMI M56 - 計量装置の測定変動と偏りに起因する費用成分の作業法 StdPbc-0522 This Guide is intended for

This Guide is intended for use in the exchange of silicon wafers and is not intended for process development where a wider range of options and data reporting formats may be appropriate

注意： 「注」の表題のついた段落は，本スタンダードの公式な一部ではなく，またスタンダード本文の内容の変更や書き換えを意図したものではない。スタンダードの利用を促進するために委員会が提供したものである。

SEMI P48-1110 (Reapproved 1221)

本仕様は，Global Gases Committeeで技術的に承認されたもので，North American Gases Committeeが直接責任を負うものである。現版は2004年4月22日North American Regional Standards Committeeにて承認されている。2004年6月にまずwww

本試験方法は，局所的光散乱（LLSs）量を等価光散乱サイズに換算する機能を持った，走査型表面検査システム（SSIS）の捕獲率（CR），偽計数率（FCR）および累積的偽計数率（CFCR）を決定することをカバーする。

M05600 - SEMI M56 - 計量装置の測定変動と偏りに起因する費用成分の作業法 StdPbc-0522 This Guide is intended forglobal Silicon Wafer Committee20061121global Audits and Reviews Subcommittee20072www. semi. org20073CD ROM200311 11 P TP T Referenced SEMI Standards SEMI E35 Guide to Calculate Cost of Ownership (COO) Metrics for Semiconductor Manufacturing Equipment SEMI E89 Guide for Measurement System Analysis (MSA) SEMI M1 Specifications for Polished Monocrystalline Silicon Wafers S EMI M59 Terminology for Silicon Technology